EN 
EN
DA
NL
FI
FR
DE
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
ID
SK
UK
VI
TH
TR
FA
BE
LA
UZ
Substrat de grafit acoperit cu carbon vitros Semixlab
| Locul de origine: | China |
| Nume de brand: | Semixlab |
| Număr model: | Carbon vitros-01 |
| Certificare: | ISO9001 |
| Cantitatea minima pentru comanda: | Supus negocierii |
| Preț: | Contact pentru o ofertă personalizată |
| Ambalare Detalii: | Pachetul de export standard |
| Timp de livrare: | Timp de livrare: 15-30 de zile după confirmarea comenzii |
| Conditii de plata: | T / T |
| Capacitatea de alimentare: | 10 tone/lună |
Descriere
Substratul de grafit acoperit cu carbon vitros este un material compozit cu grafit ca material de bază, impregnat sau acoperit cu carbon vitros, care combină conductivitatea excelentă și rezistența la temperaturi ridicate a grafitului cu inerția chimică ridicată, densitatea și caracteristicile de suprafață netedă ale carbonului vitros.
Pentru a satisface nevoile în continuă evoluție ale industriei, am dezvoltat un portofoliu divers de produse, complet echipat pentru a îndeplini cerințele tehnologiilor de acoperire de ultimă generație, asigurându-ne că putem oferi soluții care țin pasul cu cele mai recente progrese din domeniul semiconductorilor.
Aplicare:
Din perspectiva domeniilor de aplicare, gama de aplicații a grafitului acoperit cu carbon vitros este foarte largă. În domeniul materialelor semiconductoare, datorită rezistenței sale excelente la temperaturi ridicate, rezistenței la oxidare și conductivității, a devenit un material ideal pentru fabricarea plăcilor cu circuite integrate și a dispozitivelor electronice de înaltă performanță. În domeniul materialelor de turnare continuă, grafitul acoperit cu carbon vitros este utilizat pe scară largă în căptușeala cristalizatorului mașinilor de turnare continuă datorită lubricității sale bune și rezistenței la temperaturi ridicate, îmbunătățind eficient eficiența turnării continue și calitatea lingoului. În plus, în domeniile aerospațial, nuclear, metalurgic, chimic etc., grafitul acoperit cu carbon vitros joacă, de asemenea, un rol de neînlocuit.
Servicii care pot fi furnizate:
Analiza scenariilor de aplicare a clientului, potrivirea materialelor, rezolvarea problemelor tehnice.
Profilul Companiei:
Semixlab are 2 laboratoare, o echipă de experți cu 20 de ani de experiență în materiale, cu capacități de cercetare și dezvoltare și producție, testare și verificare.
Detaliu rapid:
a. Aplicație principală: Substraturile de grafit acoperite cu carbon vitros au o gamă largă de aplicații în diverse domenii, cum ar fi semiconductorii, energia, tehnologiile speciale de acoperire și tehnologiile emergente, datorită proprietăților lor fizice și chimice unice. Odată cu avansarea continuă a tehnologiei, se așteaptă ca gama de aplicații și importanța sa să se extindă în continuare.
b. Procesul de preparare:
Procesul de acoperire:
Substratul de grafit este imersat într-o soluție precursoare de polimer carbonizabil, iar un strat uniform este format prin depunere prin centrifugare, depunere prin pulverizare sau depunere chimică din vapori (CVD).
Carbonizare la temperatură înaltă:
Tratamentul la temperatură înaltă (1000–3000°C) într-o atmosferă inertă (cum ar fi argonul) transformă polimerul în carbon vitros, care este strâns legat de substratul de grafit.
c. Parametrii specificațiilor de bază:
grosimea stratului (aleasă în funcție de mediul coroziv, cu o grosime optimă de 50-100 μm); densitatea grafitului substratului (densitatea mare este mai rezistentă la penetrare); atmosfera de utilizare (oxidantă/inertă); rata de încălzire ≤10 ℃/min (reduce tensiunea la interfață); temperatura de utilizare în aer ≤600 ℃ (este necesară protecția cu gaz inert dacă se depășește).
Specificații
Comparații cheie ale performanței
| Parametru | Substrat de grafit acoperit cu carbon vitros | Grafit pur | Carbon vitros pur |
| Temperatura maximă de funcționare | 2800℃ în atmosferă inertă, 600℃ în aer | 3000℃ în atmosferă inertă, 600℃ în aer | 3000℃ în atmosferă inertă, 500℃ în aer |
| Rezistența la șocuri termice | Excelent (substratul de grafit amortizează stresul termic) | Excelent | Sărac |
| Rezistență la coroziune HF | Excelent (protecție a stratului de acoperire) | Sărac | Excelent |
| Complexitatea procesării | Mediu (necesită proces de acoperire) | Ușor de procesat | Dificil de prelucrat (foarte fragil) |
| Cost mediu | (≈2-3 ori mai mare decât grafitul pur) | Scăzut | Înalt |
Aplicatii
Domenii principale de aplicare
| Direcția de aplicare | Scenariul tipic | valoarea soluției |
| Fabricarea semiconductorilor | Susceptor de tratament termic al napolitanelor | Prevenirea eliberării impurităților de către grafit și contaminarea napolitanelor de siliciu |
| Creuzete din carbon vitros | În procesul Bridgman sau Czochralski, este utilizat pentru a crește monocristale de GaAs și SiC | Creuzetele din carbon vitros pot rezista la temperaturi ridicate de peste 2000°C și au o rezistență excelentă la șocuri termice. |
| Componente ale reactorului epitaxial la temperatură înaltă | Ca susceptor pentru substraturi sau ca căptușeală pentru camerele de reacție | La creșterea straturilor epitaxiale de GaN și SiC, inerția chimică a carbonului vitros poate împiedica reacția cu precursorii. |
| Mediul de gravare cu plasmă | Electrod sau inel de focalizare al camerei de reacție de gravare | Rezistent la eroziunea plasmatică și eliberare redusă de particule |
| Aplicații inovatoare ale substraturilor pentru fotomăști | Fotomăști EUV și cu fascicul electronic | Coeficientul de dilatare termică este aproape de zero, ceea ce este mai bun decât în sticla tradițională de cuarț. Conductivitatea electrică poate disipa în mod natural sarcina fasciculului de electroni. |
| Manipularea metalelor topite | Acoperire catodică a celulei electrolitice din aluminiu | Rezistent la coroziunea aluminiului topit, prelungind durata de viață |
| Electrod electrochimic | Plăci bipolare pentru pile de combustie | Strat de carbon vitros pentru protecție la coroziune și substrat de grafit pentru conductivitate electrică |
| Cuptor cu vid la temperatură înaltă | Strat de protecție al elementului de încălzire | Reduce volatilizarea grafitului la temperaturi ridicate |
| Instrumente analitice | Componentele sursei de ioni a spectrometrului de masă | Suprafața de înaltă puritate reduce zgomotul de fundal |
Aviz de verificare a lanțului ecologic
A trecut verificarea fiabilității de către producători precum Sinosteel
Corporația și FangDa.
Proces de producție tipic
Selectați substratul (material grafit cu porozitate de 10%-15%) → Curățarea suprafeței (1000-2000 rpm/min, 30-60min) și preîncălzirea (150-200℃, 1-2h) → Prepararea soluției de rășină fenolică (200-500 rpm/min, 30-60min, vâscozitate: 500-1000mpa·s) → Tratament prin imersie (30-50℃, 2-4h, presiune: 5-10mpa) → Întărire la temperatură joasă (150-200℃, 2-4h) → Tratament de carbonizare (1000℃, 1-2h, 0.01mpa) → Tratament de grafitizare la temperatură înaltă (10℃/min, 2500℃)
Prin inovație tehnologică continuă și dezvoltare de produse, substratul de grafit acoperit cu carbon vitros de la Semixlab a realizat un progres important în domeniul materialelor de grafit autohtone, satisfăcând cererea tot mai mare de grafit acoperit cu carbon vitros în domenii de vârf, cum ar fi vehiculele cu energie nouă, sistemele de stocare a energiei și materialele semiconductoare. Dacă aveți nevoie să obțineți documente tehnice detaliate sau să programați teste pe eșantion, vă rugăm să contactați echipa noastră de asistență tehnică.
Avantaj competitiv
Avantajele principale ale substratului de grafit acoperit cu carbon vitros Semixlab
Rezistență chimică:
Rezistent la acizi tari, alcali tari și metale topite (cum ar fi Al și Cu).
Puritatea suprafeței:
Puritate ridicată (conținut de cenușă <0.01%).
antioxidant:
Temperatura de rezistență la oxidare a suprafeței a crescut la 500-600 ℃.
Putere mecanică:
Creșterea durității suprafeței (reducerea uzurii).
Pretul biletului:
Cu 30-50% mai puțin decât produsele din carbon vitros pur.
Serviciile noastre
Magazin de produse Semixlab
