Zhejiang, 3 iunie 2026 – Semixlab, o marcă internațională renumită în domeniul acoperirilor cu materiale semiconductoare avansate, împreună cu baza sa de producție și cercetare-dezvoltare Zhejiang Liufang Semiconductor Technology Co., Ltd., a atins o etapă importantă în construcție. După finalizarea cadrului structural principal (topping-out), proiectul a trecut direct la etapa de amenajare interioară de înaltă precizie. În prezent, un sistem de cameră curată de top, de calitate semiconductoare, este supus unor lucrări interioare detaliate și unor verificări arhitecturale.

Construcția actuală include controale avansate de mediu, rețele localizate de conducte ultrapure și module localizate de flux laminar HVAC - toate proiectate pentru a respecta limite stricte privind numărul de particule. Potrivit biroului de comandă al proiectului, se așteaptă ca finisajele interioare complete, instalarea sistemului de filtrare a aerului și certificarea camerei sterile să fie finalizate în următoarele trimestre. Acest lucru plasează echipa pe drumul cel bun pentru a finaliza relocarea, calibrarea și testele inițiale ale echipamentelor CVD avansate până în decembrie 2026.

Figura 1: Vedere exterioară a instalației de producție a cărei construcție a fost finalizată cu succes.

Figura 2: Vedere interioară care prezintă pregătirea structurală și optimizările continue ale amplasamentului.

Creștere semnificativă a capacității pentru acoperirile de generație următoare

Trecerea de la o structură din beton simplu la un mediu de producție ultra-curat pentru semiconductori este o problemă importantă pentru capacitatea de producție a Semixlab. Noua unitate acoperă peste 80,000 de metri pătrați. Odată ce va fi complet funcțională, va servi drept centru de producție de volum mare, menit să reducă blocajele globale de aprovizionare pe piața pan-semiconductorilor.

Echipamentele cheie ale fabricii vor include cuptoare CVD de înaltă generație, sisteme avansate de purificare în vid și centre de prelucrare CNC automate de ultra-precizie. Datorită camerei sterile de calitate semiconductoare, toate componentele vor trece prin depunere, purificare și ambalare finală într-un mediu fără contaminare. Acest lucru este esențial pentru a îndeplini toleranțele de conținut extrem de scăzut de cenușă (sub 5 ppm prin GDMS) și de grosime sub micron pe care le solicită producătorii internaționali de cipuri.

Ce înseamnă acest lucru pentru liniile cheie de produse

Figura 3: Configurație inginerească de înaltă precizie, pregătită pentru structura unei camere sterile de calitate semiconductoare.

Figura 4: Instalare activă a pardoselilor specializate și a modulelor de purificare a aerului.

Întrucât mutarea echipamentelor este încă programată pentru sfârșitul anului, Semixlab se pregătește să accelereze livrarea produselor sale principale, inclusiv:

Acoperiri CVD cu carbură de siliciu (SiC) – pentru susceptori de SiC de înaltă puritate, inele semilunare și discuri satelit compatibile cu principalele sisteme de epitaxie.

Acoperiri CVD cu carbură de tantal (TaC) – concepute pentru componente cu câmp termic la temperatură înaltă care trebuie să rămână stabile până la 2600°C, aspecte esențiale pentru creșterea monocristalelor de SiC și GaN.

Acoperiri cu carbon pirolitic (PyC) – oferind o etanșare densă și neporoasă pentru încălzitoare specializate din grafit și hardware de procesare a napolitanelor.

Susținută de o echipă puternică de cercetare și dezvoltare, formată din oameni de știință de la Academia Chineză de Științe și Laboratorul Yongjiang, extinderea Semixlab menține lucrurile flexibile, rezistente și consecvente în ceea ce privește calitatea. Clienții la nivel global sunt invitați să programeze audituri virtuale sau să solicite kituri de validare preliminară a componentelor, pe măsură ce ne îndreptăm spre obiectivul operațional pentru trimestrul 4.